香港城大研究人员找到开发性能卓越的多功能电子器件的新方法

香港城大研究人员找到开发性能卓越的多功能电子器件的新方法电子元件(包括晶体管)的微型化已经达到了一个瓶颈,给半导体的生产带来了障碍。然而,由香港城市大学(城大)材料科学专家领导的一组研究人员推出了一种新方法,利用由混合维纳米线和纳米薄片制成的晶体管,制造出多功能、高性能的电子元件。这一突破有助于简化芯片电路设计,并促进未来灵活而节能的电子设备的发展。近几十年来,随着晶体管和集成电路的不断扩展,已经开始达到物理和经济上的极限,以可控和具有成本效益的方式制造半导体器件已成为一项挑战。晶体管尺寸的进一步扩大增加了漏电流,从而增加了功率耗散。复杂的布线网络也会对功耗产生不利影响。多值逻辑(MVL)已成为克服日益增长的功耗的一项前景广阔的技术。它超越了传统二进制逻辑系统的限制,大大减少了晶体管元件及其互连的数量,从而实现了更高的信息密度和更低的功耗。人们一直致力于构建各种多值逻辑器件,包括反双极晶体管(AAT)。反双极晶体管的突破性进展反双极器件是一类正(空穴)负(电子)电荷载流子都能在半导通道内同时传输的晶体管。然而,现有的反双极型器件主要使用二维或有机材料,这些材料对于大规模半导体器件集成来说并不稳定。此外,它们的频率特性和能效也很少被探索。针对这些限制,香港城市大学协理副校长(企业)兼材料科学与工程学系副系主任何颂贤教授领导的研究团队着手研究开发信息密度更高、互连更少的反双极器件电路,并探索其频率特性。基于GaAsSb/MoS2异质结的三元逆变器示意图研究小组采用先进的化学气相沉积技术制造出了一种新型的混合维异质晶体管,它结合了高质量砷化镓锑纳米线和MoS2纳米片的独特性能。革命性的混维晶体管新型反双极性晶体管性能卓越。由于混维GaAsSb/MoS2结具有很强的界面耦合和带状结构排列特性,这种异质晶体管具有突出的反双极传输特性,并能实现跨导翻转。与CMOS技术中的传统频率倍增器相比,转导的翻转使频率响应输入的模拟电路信号加倍,从而大大减少了所需器件的数量。何教授说:"我们的混维反双极晶体管可以同时实现多值逻辑电路和频率乘法器,这在反双极晶体管应用领域尚属首次。"香港城市大学教授何颂贤多值逻辑特性简化了复杂的布线网络,降低了芯片功耗。器件尺寸的缩小以及结区的缩小使器件既快速又节能,从而实现了高性能的数字和模拟电路。"何教授说:"我们的研究结果表明,混合维反双极器件能够实现具有高信息存储密度和信息处理能力的芯片电路设计。迄今为止,半导体行业的大多数研究人员都专注于器件的微型化,以保持摩尔定律的发展。但是,反双极型器件的出现显示了现有基于二进制逻辑的技术的相对优越性。这项研究开发的技术代表着向下一代多功能集成电路和电信技术迈进了一大步。"这项研究还为进一步简化复杂的集成电路设计以提高性能提供了可能。这种混维反双极性器件的跨导翻转功能显示了在数字和模拟信号处理中的广泛应用,包括三元逻辑反相器、先进光电子学和倍频电路。何教授补充说:"新的器件结构预示着未来多功能电子技术革命的潜力。"编译来源:ScitechDaily...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1421483.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1421483.htm

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西电郝跃院士在超陡垂直晶体管器件研究方面取得进展该工作报道一种新型晶体管器件技术,将电阻阈值开关与垂直晶体管进行集成,实现了兼具超陡亚阈值摆幅与高集成密度潜力的垂直沟道晶体管,电流开关比超过8个数量级且室温亚60mV/dec电流范围超过6个数量级,为后摩尔时代高性能晶体管技术提供了一种新的器件方案。随着集成电路制造工艺下探亚5纳米技术节点,传统的晶体管尺寸微缩路线无法像过去一样使能“器件-芯片”性能提升与成本控制。在此背景下,学术界与工业界近年来提出多种创新器件技术,以期克服常规MOSFET的技术局限。其中,三星、IBM、欧洲微电子中心(IMEC)等国际研发机构推出了垂直输运场效应晶体管(vertical-transportfield-effecttransistor,VTFET)器件技术。通过将电流方向从传统MOSFET的平面方向转换为垂直方向,该器件结构有望在芯片上垂直构造晶体管,从而大幅降低器件占有空间,提高集成密度。受此启发,西电研究团队采用超薄二维异质结构造VTFET半导体沟道并与电阻阈值开关(TS)垂直集成,实现超陡垂直晶体管(TS-VTFET)。这一器件技术借助超薄二维半导体出色的静电调控,大幅提升器件栅控能力;同时,借助电阻阈值开关的电压控制“绝缘-导电”相变特性,该器件的室温亚阈值摆幅达到1.52mV/dec,远低于常规MOSFET室温亚阈值摆幅高于60mV/dec的理论极限。此外,在发表的概念验证工作中,研究团队制备的超陡垂直晶体管表现出强大性能,包括电流开关比高于8个数量级、亚60mV/dec电流区间超过6个数量级、漏电流小于10fA等,为后摩尔时代高性能低功耗晶体管技术提供了一种新的方案。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1419269.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1419269.htm

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研究:新方法有望制造性能更好的低成本光电材料

研究:新方法有望制造性能更好的低成本光电材料一项新发表在英国《自然》期刊上的国际研究表明,用一种新方法对半导体材料氧化亚铜进行“扭曲”后,发现其捕获光能后转化为可用电能的性能提升70%。这种方法有望制造性能更好的低成本光电材料。新华社报道,铜氧化物是价格低廉、储量丰富的半导体材料,具有良好的导电性和光学性能,可用于制造太阳能电池、光电器件、传感器等。铜氧化物虽然在捕捉阳光并将其转化为电荷方面相当有效,但容易丢失电荷,材料性能有限。研究人员说,他们发现电荷在这种半导体材料中沿着对角线方向移动时,比沿着表面或边缘移动要远得多,而能让电荷移动得更远就意味着材料性能更好。为优化这种低成本材料的性能,研究人员利用薄膜沉积技术,在常温常压下制备出高质量的氧化亚铜晶体薄膜,通过精确控制晶体的生长和流速,使晶体的生长方向“扭向”对角线方向,并观察晶体的生长方向如何影响电荷在材料中的有效移动。他们发现,对这种新技术制造的氧化亚铜光电阴极的测试表明,与现有的电沉积氧化物制成的光电阴极相比,性能提高70%以上,同时晶体薄膜稳定性也显著提升。2024年5月5日1:55PM

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研究人员发明全新电化学晶体管 有望推动穿戴电子产品传感器技术革新

研究人员发明全新电化学晶体管有望推动穿戴电子产品传感器技术革新这种晶体管可以使开发可穿戴设备成为可能,这些设备可以在生物-设备接口处直接进行现场信号处理。一些潜在的应用包括监测心率和血液中的钠和钾水平,以及跟踪眼球运动以研究睡眠障碍。垂直电化学晶体管是基于一种新的电子聚合物的垂直架构该研究的共同通讯作者TobinJ.Marks说:"所有的现代电子产品都使用晶体管,它们能迅速地打开和关闭电流。在这里,我们使用化学方法来加强开关。我们的电化学晶体管将性能提高到一个全新的水平。拥有传统晶体管的所有特性,bing拥有高得多的跨导(衡量它能够提供的放大作用),开关特性的超稳定循环,能够实现高密度集成的小尺寸,以及简单、低成本的制造门槛。"Marks是材料科学和有机电子领域的世界领袖。他是温伯格文理学院的VladimirN.Ipatieff催化化学教授和麦考密克工程学院的材料科学和工程以及化学和生物工程教授。垂直电化学晶体管是基于一种新的电子聚合物和垂直而非平面的结构。它既能导电,又能传导离子,在空气中很稳定。新材料的设计和合成以及晶体管的制造和表征需要化学家、材料科学家和生物医学工程师的合作专长。Marks与温伯格大学化学研究教授AntonioFacchetti、现为中国电子科技大学教授的黄伟以及麦考密克学院生物医学工程教授JonathanRivnay一起领导了该研究团队。Rivnay说:"这种令人兴奋的新型晶体管使我们能够使用生物系统和电子系统的语言,前者经常通过离子信号进行交流,后者则通过电子进行交流。晶体管作为'混合导体'非常有效地工作的能力使它们对生物电子诊断和治疗具有吸引力。"这项详细介绍高效电化学晶体管的研究和一篇附带的新闻与观点文章最近发表在《自然》杂志上。Facchetti说:"由于其垂直结构,我们的电化学晶体管可以一个接一个地堆叠起来。因此,我们可以制作非常密集的电化学互补电路,这对于传统的平面电化学晶体管来说是不可能的。"为了制造更可靠和强大的电子电路,需要两种类型的晶体管:携带正电荷的p型晶体管和携带负电荷的n型晶体管。这些类型的电路被称为互补电路。研究人员过去面临的挑战是,n型晶体管难以建造,而且通常不稳定。初步的工作展示了两种类型(p+n)电化学晶体管具有相似和非常高的性能。这导致了非常高效的电化学互补电路的制造。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1345509.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1345509.htm

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可重构晶体管可通过编程执行不同功能研究人员解释说,射频晶体管是电子电路和芯片设计技术的重大突破。可编程晶体管使用的材料与半导体工业使用的材料相同,即硅和锗,它们可以显著改善功耗和能效。传统的晶体管开发包括化学掺杂,这是一种用外来原子"污染"半导体材料的技术。掺杂过程决定了电流的流动方向,一旦晶体管被制造出来就无法改变。射频晶体管用静电掺杂取代了化学掺杂,这是一种不会永久改变半导体材料化学结构的新方法。一旦电场取代了"复杂而昂贵"的化学掺杂过程,晶体管就可以动态地重新配置,以执行不同的逻辑运算。维也纳工业大学教授沃尔特-韦伯(WalterM.Weber)说,重配置工作在"基本开关单元",而不是将信息路由到固定的功能单元。韦伯补充说,这种方法对于构建未来的可重构计算和人工智能应用"大有可为"。研究人员于2021年开发出了RFET基本技术,现在他们已经证明可重写晶体管可用于构建芯片中的所有基本逻辑电路。最近发表的研究报告展示了一种反相器、NAND/NOR和XOR/XNOR门,它们能够在运行时动态切换工作模式。静电掺杂所需的额外栅极需要占用空间,这意味着RFET并不像标准CMOS晶体管那么小。新的可编程晶体管不可能很快取代固定晶体管,但它们可以共存,并为某些灵活性至关重要的计算应用提供动力。研究人员解释说,RFET的可重构特性可以减少逻辑电路所需的晶体管总数。更少的晶体管意味着制造芯片所需的空间更小,功耗也会降低。通过切换单个晶体管或整个电路的极性,单个电路可以提供多种功能。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1425449.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1425449.htm

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克服量子的限制 研究人员找到一种控制电子自旋的新方法

克服量子的限制研究人员找到一种控制电子自旋的新方法罗切斯特大学的一个研究小组在物理学副教授约翰-尼科尔的领导下,在《自然-物理学》杂志上发表了一篇论文,概述了操纵硅量子点--微小的、纳米级的半导体,具有显著特性的电子自旋的新方法,作为操纵量子系统信息的一种方式。尼科尔说:"这项研究的结果为基于半导体量子点中的电子自旋的量子比特的相干控制提供了一个有希望的新机制,这可能为开发一个实用的硅基量子计算机铺平道路。"罗切斯特大学的研究人员通过控制硅量子点中电子的自旋,开发了一种在量子系统中操纵信息的新方法。硅中的电子在其自旋(向上和向下箭头)和谷态(蓝色和红色轨道)之间经历了一种被称为自旋-谷态耦合的现象。当研究人员对硅中的电子施加电压(蓝色光芒)时,他们利用自旋-谷耦合效应,可以操纵自旋和谷态,控制电子自旋。资料来源:罗切斯特大学插图/MichaelOsadciw使用量子点作为量子比特一台普通计算机由数十亿个晶体管组成,称为比特。另一方面,量子计算机是基于量子比特,也被称为量子比特。与普通的晶体管不同,它可以是"0"(关闭)或"1"(打开),而量子比特受量子力学规律的支配,可以同时是"0"和"1"。科学家们早就考虑使用硅量子点作为量子比特;控制量子点中电子的自旋将提供一种操纵量子信息传输的方法。量子点中的每个电子都有内在的磁性,就像一个小小的条形磁铁。科学家把这称为"电子自旋"--与每个电子相关的磁矩--因为每个电子是一个带负电的粒子,其行为就像它在快速旋转一样,而正是这种有效的运动引起了磁性。电子自旋是在量子计算中传输、存储和处理信息的一个有希望的候选者,因为它提供了长的相干时间和高的门控保真度,并且与先进的半导体制造技术兼容。量子比特的相干时间是指量子信息因与噪声环境相互作用而丢失之前的时间;长相干时间意味着执行计算的时间更长。高的门控保真度意味着研究人员要进行的量子操作会完全按照他们的要求进行。然而,使用硅量子点作为量子比特的一个主要挑战是控制电子自旋。控制电子自旋控制电子自旋的标准方法是电子自旋共振(ESR),它涉及到对量子比特施加振荡的射频磁场。然而,这种方法有几个局限性,包括需要在低温环境下产生和精确控制振荡磁场,而大多数电子自旋量子比特是在低温环境下工作的。通常情况下,为了产生振荡磁场,研究人员通过电线发送电流,这就会产生热量,从而干扰低温环境。尼科尔和他的同事概述了一种控制硅量子点中电子自旋的新方法,该方法不依赖于振荡电磁场。该方法基于一种被称为"自旋-谷粒耦合"的现象,当硅量子点中的电子在不同的自旋和谷粒状态之间转换时,就会发生这种现象。电子的自旋态指的是它的磁性,而谷态指的是与电子的空间轮廓有关的另一种属性。研究人员应用一个电压脉冲来利用自旋-谷耦合效应,操纵自旋和谷态,控制电子自旋。"这种通过自旋-谷耦合进行相干控制的方法,可以实现对量子比特的普遍控制,并且可以在不需要振荡磁场的情况下进行,而振荡磁场是ESR的一个限制,"尼科尔说。"这使我们有了一条新的途径,可以使用硅量子点来操纵量子计算机中的信息。"...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1346405.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1346405.htm

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研究人员展示了"挤压"红外光的新方法研究人员已经证明,一种特定类型的氧化物膜可以比块体晶体更有效地限制红外光,这对下一代红外成像技术具有重要意义。这些薄膜膜在压缩波长的同时保持所需的红外频率,从而实现更高的图像分辨率。研究人员利用过渡金属钙钛矿材料和先进的同步加速器近场光谱,表明这些膜中的声子极化子可以将红外光限制在其波长的10%以内。这一突破可能带来光子学、传感器和热管理领域的新应用,并可能轻松集成到各种设备中。图片来源:北卡罗来纳州立大学YinLiu“薄膜膜保持了所需的红外频率,但压缩了波长,使成像设备能够以更高的分辨率捕捉图像,”该论文的共同通讯作者、北卡罗来纳州立大学材料科学与工程助理教授YinLiu说道。“我们已经证明,我们可以将红外光限制在其波长的10%以内,同时保持其频率-这意味着波长循环所需的时间相同,但波峰之间的距离要近得多。块状晶体技术将红外光限制在其波长的97%左右。”“这种行为以前只是理论上的,但我们能够通过我们制备薄膜膜的方式和我们对同步加速器近场光谱的新用途首次在实验中证明它,”该论文的共同主要作者、北卡罗来纳州立大学材料科学与工程助理教授RuijuanXu说道。为了这项工作,研究人员使用了过渡金属钙钛矿材料。具体来说,研究人员使用脉冲激光沉积在真空室中生长出100纳米厚的钛酸锶(SrTiO3)晶体膜。这种薄膜的晶体结构质量很高,这意味着它几乎没有缺陷。然后将这些薄膜从生长它们的基底上取下,并放置在硅基底的氧化硅表面上。研究人员随后利用劳伦斯伯克利国家实验室先进光源的技术,在钛酸锶薄膜暴露于红外光时对其进行同步近场光谱分析。这使研究人员能够在纳米级捕捉到材料与红外光的相互作用。要了解研究人员学到了什么,我们需要讨论声子、光子和极化子。声子和光子都是能量在材料之间传播的方式。声子本质上是由原子振动引起的能量波。光子本质上是电磁能的波。可以把声子看作是声能的单位,而光子是光能的单位。声子极化子是准粒子,当红外光子与“光学”声子(即可以发射或吸收光的声子)耦合时就会产生。“理论论文提出了这样一种观点,即过渡金属钙钛矿氧化物膜将允许声子极化子限制红外光,”刘说。“而我们的工作现在表明,声子极化子确实限制了光子,并且还阻止光子超出材料表面。这项工作建立了一类用于控制红外波长光的新型光学材料,在光子学、传感器和热管理方面具有潜在的应用,想象一下,能够设计出使用这些材料通过将热量转化为红外光来散热的计算机芯片。”“这项工作也令人兴奋,因为我们展示的制造这些材料的技术意味着薄膜可以很容易地与各种各样的基底集成,”徐说。“这应该可以轻松地将这些材料整合到许多不同类型的设备中。”编译来源:ScitechDaily...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1434557.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1434557.htm

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