ASML否认特供版DUV:没有面向中国市场推出特别版光刻机

ASML否认特供版DUV:没有面向中国市场推出特别版光刻机1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机,支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm,理论上可以支持7nm工艺。大多数晶圆厂使用1980Di光刻机,主要生产14nm及以上工艺芯片,很少使用其生产7nm芯片。最近荷兰发布新规定,企业出口先进设备需要申请许可,9月1日后生效。ASML表示,根据新出口管制条例规定,该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向ASML提供许可证所附条件的细节。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369385.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1369385.htm

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光刻机巨头ASML:没有向中国市场推出特别版光刻机

光刻机巨头ASML:没有向中国市场推出特别版光刻机一周前,荷兰政府正式宣布限制某些先进半导体设备出口的新规,这些规定将于9月1日生效。具体而言,荷兰政府将要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证。尽管荷兰政府并未直接点名会受到限制的公司,但外界都明白这是在针对当地最出名的半导体设备公司ASML。彼时,ASML回应观察者网表示,根据新出口管制条例规定,该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向ASML提供许可证所附条件的细节。ASML在声明中重点指出,荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统(DUV,深紫外光刻)。而该公司的EUV光刻(极紫外光刻)系统在此前已经受到限制,其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。ASML受出口管制的光刻机型号在荷兰政府宣布新的半导体出口管制条例后,中国驻荷兰大使馆6月30日很快做出回应:荷兰政府正式出台半导体制造设备的出口管制措施,这是对出口管制措施的滥用,是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离,中方对此坚决反对。“我们呼吁荷方从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发,立即纠正错误做法。中方将坚决维护自身合法权益。同时,也愿与荷方一道,本着互利互惠的原则,共同探讨解决方案,共同推动中荷经贸关系健康发展。”中国驻荷兰大使馆发言人表示。ASML方面也早就对出口管制做出过警示。今年2月,在接受欧洲媒体采访时,ASML首席执行官温彼得直言,如果美国及其盟友切断中国(大陆)获得某些半导体和半导体制造技术的渠道,中国将被迫加倍努力开发自主技术。他坦言,虽然出口管制是合法工具,但不应该被滥用,决策者在“摆弄”半导体供应链之前应充分了解它的复杂性。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1369555.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1369555.htm

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ASML部分先进DUV光刻机出口受限:对准精度不高于2.5nm同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统,先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”据中国经营报,荷兰方面的动议未提及会对服务采取限制措施的表述,换言之,业内人士相信,已完成进口的DUV设备大都还处在关键部件的设计寿命以内,只要正常维护保养就暂无影响。一般,DUV设备6个月进行一次维护以替换或维修老化和损耗部件。另外,按照目前业界理解,不受出口限制的DUV将停留在对准精度2.5纳米的水平。ASML已经出货的DUV光刻机中对准精度最高的是1.5nm的NXT:2050i。所谓“对准精度”是指,光刻机在进行芯片加工时,在对准芯片和掩模图案时能够达到的精度。对准精度一般以纳米衡量,纳米数值越小,产品越先进。至于所谓浸没式光刻机(浸润式光刻机),属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式),可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1350131.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1350131.htm

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