俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试 可生产350纳米工艺芯片

俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试可生产350纳米工艺芯片什帕克告诉媒体：“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”在全球范围内，这种复杂程度的设备由几家主要公司组装，其中最大的是荷兰的ASML公司以及佳能和尼康。目前，台积电和三星利用ASML的EUV光刻技术，已经能够生产出精细至3纳米甚至2纳米的芯片。尽管350纳米的芯片技术相较之下显得落后，但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。对于受到美西方严厉制裁的俄罗斯半导体产业而言，这一进展无疑是一则喜讯。这意味着，俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破，有望减少对外部技术的依赖，提升国内产业的自主性和竞争力。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1432289.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1432289.htm

俄罗斯完成制造首台 350 纳米制程的光刻机

俄罗斯完成制造首台350纳米制程的光刻机俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长VasilyShpak指出，该设备可支持生产最终到达350纳米工艺的芯片。Shpak告诉媒体：“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。——